【信息科学与工程学】【产品体系】第十三篇 光刻机08 EUV光刻机的主要数学理论01
EUV 2nm光刻机系统的模型表格
EUV-D1-0001 ~ 0015
编号 | 类别 | 领域 | 模型配方 | 定理/算法/模型/方法名称 | 定理/算法/模型/方法的逐步思考推理过程及每一个步骤的数学方程式和常量/标量/向量/变量/参数列表 | 精度/密度/误差/强度 | 底层规律/理论定理 | 典型应用场景和各类特征 | 变量/常量/参数列表及说明 | 数学特征 | 语言特征 | 时序和交互流程的所有细节/分步骤时序情况及数学方程式 | 流动模型和流向方法的数学描述 | 软件/硬件 |
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EUV-D1-0001 | 系统集成模型 | 集成工程制造 | 基于多物理场耦合与高阶控制的状态空间模型 |